Equipment

■ 成膜・表面処理装置編

機能材料研究室では、自家設計のオリジナル装置を用いて機能材料を形成しています。

 

a-/mcSi成膜用大気圧プラズマCVD装置
本装置では、太陽電池用のa-/mc-Si薄膜の高速形成を行っています。
epi-Si成長用大気圧プラズマCVD装置
本装置では、LSI、太陽電池に向けたepi-Si薄膜の高速形成を行っており、雰囲気の清浄度は他のCVD装置に比較して2桁程度高い性能を有しています。
高温対応汎用型大気圧プラズマ処理装置
本装置は、大気圧プラズマ適用の基礎検討を行う際に汎用的に用いられる装置です。
大面積基板用型大気圧プラズマCVD装置
社長本装置は、大気圧プラズマCVDを大面積に適用するための装置です。
ドーピング用大気圧プラズマCVD装置
本装置は、導電型が制御されたSi膜を作製するための装置です。
分子線エピタキシー装置
本装置は、超高真空の環境を利用して、ⅢV族半導体材料の形成を行う装置です。
表面制御装置
本装置は、結晶の成長核を人為的に制御するために用いられる装置です。
ミストプラズマ生成装置
 

■ 評価装置編

機能材料研究室では、作製した機能材料および表面を以下の装置により評価しています。

上記以外にも、

  • 原子間力顕微鏡
  • X線光電子分光装置
  • ラマン分光装置
  • カソードルミネッセンス装置
  • 波長可変色素レーザー
  • 汎用分光器
  • 自動エリプソメータ

等の計測評価機器を駆使して創成した材料の評価を行っています。